光刻机的故事（上）如何用极紫外光制造电路板？

光刻机的故事（上）：如何用极紫外光制造电路板？

芝能智芯出品光刻是半导体制造中的最为关键技术，用于在硅片上精确地转移电路设计。随着摩尔定律的推进，芯片上的晶体管数量持续增加，对光刻技术的要求也越来越高。从最初的紫外线到深紫外线，再到极紫外光刻技术，每一次进步都伴随着巨大的技术和工程挑战。光刻机是如何发展起来的？本文分为上下两篇来介绍这个故事：●第一：光刻技术的基础和早期发展，包括极紫外光刻技术（EUV）的起源和初步挑战。第二：EUV技术如何克服这些挑战，并最终成为半导体制造中的关键工具。Part1光刻技术的发展在半导体fabrication中，光刻是使用光敏感化...